理学院数理讲坛（第二十四讲）

报告题目：微光刻与微纳米加工技术讲座

报告人：陈宝钦研究员（中国科学院微电子研究所）

报告时间：2011年11月3日（周四）8：30-11:30

报告地点：理学院报告厅

报告摘要：

　　微光刻与电子束光刻技术是推动纳米电子学和微纳米加工发展的关键技术之一，尤其在纳米制造领域中起着不可替代的作用，其中先进电子材料与器件的开发与研究方面也离不开微光刻技术与电子束光刻技术。中国科学院微电子研究所拥有配备JBX 5000LS 、JBX 6300FS两部纳米电子束光刻系统和电子显微镜等组成的电子束光刻技术实验平台，主要利用电子束直写系统开展纳米器件和纳米结构制造工艺技术的研究，同时还拥有MEBES4700S和JBX6AII电子束曝光系统和光学曝光系统组成的光掩模制造技术平台，为国内外高等院校及科研院所提供高精度的微米及亚微米级掩模制造技术服务。本讲座重点介绍：1）国内外微光刻与微纳米加工技术发展历程；2）光学曝光技术、光学曝光分辨率增强技术及先进掩模技术3）应用于微纳米制造的电子束直写技术及电子束极限光刻技术；4）微光刻图形数据处理技术与邻近效应校正技术；5）下一代光刻技术6）传统和非传统的纳米制造技术等。

报告人简介：

　　陈宝钦教授，研究员，博士生导师，1942年生于福建省福州市，1966年毕业于北京大学物理系，1968-1985年任职于中国科学院半导体研究所，1986年至今于中国科学院微电子研究所。兼职中国科学院研究生院教授，北京半导体专业委员会副主任、制版分会主任，全国半导体设备与材料标准化技术委员会副主任、微光刻分委会主任，全国纳米技术标准化技术委员会微纳加工技术工作组副秘书长。多年来一直从事光掩模与先进掩模制造技术、电子束光刻技术、微光刻与微纳米加工技术研究和开发工作。

　　E-mail地址：chenbq@ime.ac.cn